磁場輔助批量化拋光設(shè)備

功能介紹

該系列設(shè)備為高精度批量化拋光設(shè)計的智能化設(shè)備，適用于金屬制樣、異形金屬工件(醫(yī)療器械、模具、高端刀具)及小型光學玻璃元件的表面處理。設(shè)備采用模塊化設(shè)計,集成智能控制系統(tǒng)與磁場輔助批量化拋光工藝,滿足實驗室及加工車間的高效、高精度需求。

【設(shè)備亮點】

1.創(chuàng)新技術(shù)

※可實現(xiàn)曲面元件批量拋光且同步達到納米級表面粗糙度與微米級保形精度的技術(shù)。

※可同時拋光幾十甚至數(shù)百件工件。

2.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

※用于金屬制樣、醫(yī)療器械(手術(shù)器械/植入物)、高端刀具(硬質(zhì)合金刀具)、光學元件(鏡片/光學模具)、航空航天、半導體及奢侈品制造等高端領(lǐng)域。

※根據(jù)客戶的具體需求提供定制化方案。

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lzzkkh@licp.cas.cn

蔣工：13609382552

王工：15117025700

技術(shù)指標

單軸拋光系統(tǒng)MAMP-100
拋光工件類型	尺寸（mm）	重量（Kg）	電功率（W）
單面工件拋光	500400600	65	1000
電機轉(zhuǎn)速（RPM）	額定轉(zhuǎn)矩（Nm）	工作溫度（℃）	工作濕度（％）
0-2000	4.77	0-40	5-90

雙軸拋光系統(tǒng)MAMP-2-150
拋光工件類型	尺寸（mm）	重量（kg）	電機功率
回轉(zhuǎn)類工件拋光	5004001000	100	1000/750
電機轉(zhuǎn)速（RPM）	額定轉(zhuǎn)矩（Nm）	工作溫度（℃）	工作濕度（％）
0-2000/0-3000	4.77/2.4	0-40	5-90

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